IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺，专为 IC 载板（如 ABF 载板、BT 载板）沉积高精度金属镀层，核心作用是实现芯片与基板的可靠电连接、提升散热与抗腐蚀性能。
关键技术 电镀液配方：例如酸性铜盲孔填充电镀液通常为高浓度的铜（200g/L 至 250g/L 硫酸铜）和较低浓度的酸（约 50g/L 硫酸），并添加抑制剂、光亮剂和整平剂等有机添加剂，以控制电镀速率，获得良好的填充效果和物理特性。 添加剂控制：通过控制添加剂的浓度和比例，利用抑制剂、光亮剂和整平剂的不同作用，实现盲孔的自下而上填充，避免大凹陷、敷形填充等问题，同时保证镀层的均匀性和表面质量。
电子载板电镀加工关键选型与成本要点 镀层选型：常规场景用铜 + 锡镀层（低成本），高端场景选镍 + 金镀层（高可靠性），特种场景用钯、铑等稀有金属镀层。 成本控制：批量加工可降低单位材料损耗，简化镀层结构（如减少贵金属厚度），优化前处理工艺以提升良率。 质量标准：需符合 IPC、JIS 等行业规范，重点检测镀层厚度（XRF）、附着力（划格测试）、耐环境性（高低温、盐雾测试）。
通讯载板电镀加工关键技术 电镀液配方优化：为了实现高精度的电镀效果，需要针对不同的镀层和工艺要求，优化电镀液配方。例如，铜镀液中铜离子浓度、硫酸浓度以及添加剂的种类和含量等都需要控制，以保证镀层的均匀性、致密度和附着力。 添加剂控制：添加剂在通讯载板电镀中起着关键作用，通过控制抑制剂、光亮剂和整平剂等添加剂的浓度和比例，可以实现超细线路的均匀电镀，避免出现镀层桥连、空洞等缺陷。 设备与工艺参数调控：先进的电镀设备能够控制电场、电流密度、温度、时间等参数，确保电镀过程的稳定性和一致性。例如，在脉冲电镀中，通过合理设置脉冲参数，可以改善镀层的结晶结构，提高镀层的性能。